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面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合和光刻設(shè)備的LINGXIAN供應(yīng)商EVGroup（EVG）近日推出了IQAlignerNT，它是針對(duì)大批量先進(jìn)封裝應(yīng)用的新的，先進(jìn)的自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。新型IQAlignerNT具有高強(qiáng)度和高均勻度的曝光光學(xué)器件，新的晶圓處理硬件，可實(shí)現(xiàn)全局多點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓WANQUAN覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件，從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQAligner相比，對(duì)準(zhǔn)精度提高了2倍。該系統(tǒng)超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應(yīng)用...

奧地利EVGroup（EVG）宣布，為形成手機(jī)用相機(jī)模塊高耐熱鏡頭，芬蘭HeptagonOy采用了EVG的光刻機(jī)(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高級(jí)副總裁HermannWaltl表示，Heptagon采用的是支持300mm晶圓的裝置。該裝置已提供給Heptagon的制造子公司——新加坡HeptagonMicro-OpticsPte。Heptagon是于1993年成立的風(fēng)險(xiǎn)企業(yè),目的是將芬蘭赫爾辛基大學(xué)與瑞士約恩蘇大學(xué)的微型光學(xué)元件的研究成果投入實(shí)用。該...

在微電子、納米、半導(dǎo)體領(lǐng)域?yàn)榫雍虾凸饪碳夹g(shù)提供設(shè)備技術(shù)方案的供應(yīng)商EVG近期推出了NT系列光刻機(jī)和對(duì)準(zhǔn)測(cè)試機(jī)，這是一個(gè)全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠(chǎng)家驗(yàn)證過(guò)的新型光刻曝光機(jī)以及晶圓對(duì)晶圓(W2W)接合曝光和測(cè)試系統(tǒng)，可滿(mǎn)足用戶(hù)對(duì)更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結(jié)構(gòu)和更密集封裝生產(chǎn)轉(zhuǎn)型的趨勢(shì)帶來(lái)了眾多的新挑戰(zhàn)，如對(duì)更高精度的要求，因?yàn)檫@將嚴(yán)重影響設(shè)備的偏差律，并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。新的EVGNT系列光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)機(jī)可極大提高對(duì)準(zhǔn)精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產(chǎn)廠(chǎng)家在先進(jìn)微...

一、簡(jiǎn)介第四次工業(yè)革命以數(shù)年前尚不存在的技術(shù)席卷了我們的生活，其中一些在幾十年前甚至無(wú)法想象。自動(dòng)駕駛汽車(chē)已經(jīng)在公共街道上進(jìn)行測(cè)試；無(wú)人機(jī)正在調(diào)查地形，拍攝視頻，派發(fā)包裹；由專(zhuān)業(yè)人士和業(yè)余愛(ài)好者創(chuàng)建的大量視頻內(nèi)容正在被拍攝和發(fā)布；固定和移動(dòng)監(jiān)視變得司空見(jiàn)慣；服務(wù)器的體量變得驚人的龐大，4G網(wǎng)絡(luò)正在被5G補(bǔ)充或替代。所有這些趨勢(shì)的共同之處在于，它們生成的大量數(shù)據(jù)必須比以往任何時(shí)候更快、更可靠地進(jìn)行處理、傳輸和存儲(chǔ)。上述這些新應(yīng)用中，許多將需要高級(jí)邏輯器件來(lái)實(shí)現(xiàn)更高的功耗和處理速...

納米壓印光刻系統(tǒng)制造商SwissLithoAG今天宣布一種聯(lián)合解決方案，可以生產(chǎn)最小到單納米級(jí)的3D結(jié)構(gòu)。該方案最初在由歐盟第七框架計(jì)劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項(xiàng)目中得到證明，該方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統(tǒng)，以生產(chǎn)具有3D結(jié)構(gòu)的主模板用于納米壓印光刻系統(tǒng)和EVG。目標(biāo)應(yīng)用：EVG和SwissLitho最初將以聯(lián)合解決方案為目標(biāo)，以開(kāi)發(fā)衍射光學(xué)元件和其他相關(guān)光學(xué)組件，以支持光子學(xué)，數(shù)據(jù)通信，增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)和其他...